技術

グラフェンナノチューブの工業合成

単層カーボンナノチューブ合成「Graphetron 1.0」のパイロット生産設備は、ノボシビルスク・アカデムガラドク地区テクノパークのOCSiAl社R&Dセンターであるナノモディファイド・マテリアルセンターに設置されました。

ここは、世界で最大規模の合成設備で、年間10トンを超える単層カーボンナノチューブを生産しています。「Graphetron 1.0」の使用効果は、当社の合成技術が限りなく普及する可能性を示しています。

「Graphetron 1.0」最大生産量は、年間10トンまでです。

Graphetron 1.0で実現した単層カーボンナノチューブ(SWCNT)の合成技術は、特許RU 2157060RU 2478572US 6846467US 8137653US 8551413に保護され、また多くの特許局に登録された特許にも保護されています。この技術によって、広範囲なカーボンナノ材料を合成できます。

Graphetron 1.0」のパイロット設備の設計と製造において優先させたのは安全問題です。そのために、化学産業において設備の設計段階から多くの経験と歴史をもつ、国際的に有名なエンジニアリング会社の協力を得ました。    

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カーボンの時代